南京洁净室_南京净化工程-江苏智之海科技有限公司

微纳平台洁净室核心功能区划分

微纳平台洁净室的功能区布局围绕“微纳器件制备-测试-流转”的核心流程设计，结合洁净等级要求与工艺流程逻辑，通常分为以下关键区域：

1. 人员净化区

人员是洁净室污染的主要来源之一，该区域用于实验人员进入洁净区的前置净化，防止外界污染物带入。主要功能区包括：

更衣室：配备更衣柜、鞋柜，实验人员需更换洁净服（如连体服、防静电服）、口罩、手套、鞋套等防护装备；

风淋室：通过高速气流吹走洁净服表面的灰尘，是进入洁净区的关键净化环节；

缓冲间：设置在洁净区入口，作为“内外过渡区”，确保洁净区气压稳定，减少外界空气倒灌。

2. 物料净化区

用于实验材料、设备、耗材的进出管控与净化，避免物料携带污染物进入洁净区。主要功能区包括：

物料传递窗：用于洁净区与非洁净区之间的物料传递，传递窗内需设置紫外线灯或高效过滤器，确保物料表面清洁；

物料暂存区：存放已净化的物料，通常位于洁净区入口附近，便于快速转运至实验区。

3. 洁净生产区（核心工艺区）

微纳器件的主要制备区域，根据工艺类型细分为多个子区，每个子区对应不同的洁净等级（如百级、千级、万级）：

清洗区：用于芯片或器件的预处理，去除表面污染物（颗粒、有机物、金属离子等），分为有机清洗间（如丙酮、乙醇清洗）、无机清洗间（如酸液、碱液清洗）、超声清洗间（利用超声波振荡去除微小颗粒）；

光刻区（黄光区）：用于图形转移（将掩膜版图案转移到光刻胶上），是微纳加工的关键环节，需严格控制光照（通常使用黄光，避免光刻胶曝光），配备光刻机、匀胶显影机；

薄膜沉积区：用于生长薄膜材料（如金属、介质、半导体），包括物理气相沉积（PVD，如磁控溅射、电子束蒸镀）、化学气相沉积（CVD，如PECVD、LPCVD）等设备；

刻蚀区：用于去除多余材料（形成微纳结构），分为干法刻蚀（如反应离子刻蚀、等离子体刻蚀）和湿法刻蚀（如酸液、碱液刻蚀）；

封装与划片区：用于器件后处理，包括芯片划片（将晶圆分割为单个芯片）、引线键合（将芯片与封装基板连接）、激光植球（用于倒装芯片封装）等。

4. 测试与表征区

用于微纳器件的性能测试与质量表征，确保器件符合设计要求。主要功能区包括：

器件测试间：配备探针台、半导体参数分析仪、示波器等设备，用于测试器件的电学性能（如电流-电压特性、开关速度）；

表征检测区：配备透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）等高端仪器，用于分析器件的微观结构（如晶粒尺寸、薄膜厚度、表面形貌）。

5. 辅助功能区

为洁净室的正常运行提供支持保障，不直接参与工艺流程，但对环境有严格要求：

动力间：放置净化空调系统、纯水系统、特气系统（如氮气、氧气、硅烷）的设备，确保洁净室的空气洁净度、温湿度、压力等参数稳定；

灰区（设备维护区）：用于存放洁净室维护设备（如过滤器更换车、维修工具），通常设置为“半洁净区”，仅限平台工程师进入；

办公/休息区：为实验人员提供办公、休息空间，通常与洁净区隔离，避免人员频繁进出影响洁净环境。

以上功能区划分需遵循“不交叉、不干扰”原则，确保工艺流程顺畅，同时满足微纳器件制备对洁净度、温湿度、静电控制等环境的高要求。

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